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      Quorum Technologies發(fā)布新款電子顯微鏡涂層

      2022-03-09新聞資訊

      電子顯微鏡技術(shù)依賴于樣品和顯微鏡之間的電子轉(zhuǎn)移。對于導(dǎo)電樣品,這很容易實現(xiàn)。然而,必須用導(dǎo)電涂層涂覆非導(dǎo)電或?qū)щ娦圆畹臉悠芬陨煽捎玫膱D像。

      在不收取溢價的情況下生產(chǎn)高質(zhì)量的電子顯微鏡涂層

      圖片來源:Quorum Technologies Ltd

      嘗試獲取高質(zhì)量圖像時,高質(zhì)量涂層至關(guān)重要。Quorum Technologies 開發(fā)了 Q Plus 系列,為研究人員提供動態(tài)和高性能涂層,以在沒有相關(guān)價格標(biāo)簽的情況下與主要制造商競爭。電子顯微鏡的涂層技術(shù)

      涂層在電子顯微鏡中的作用

      掃描電子顯微鏡 (SEM) 和透射電子顯微鏡 (TEM)的功能類似于光學(xué)顯微鏡,但它們不是使用光探測材料,而是利用電子。因此,它們是世界上最強大的顯微鏡技術(shù)。

      光學(xué)顯微鏡受衍射限制(最大分辨率約為 200 nm)。相比之下,電子顯微鏡可以產(chǎn)生波長明顯更小的電子束1 ,并超過光學(xué)顯微鏡的分辨能力幾個數(shù)量級。

      然而,利用電子的力量而不是光的力量提出了一系列新的挑戰(zhàn)。兩種技術(shù)(SEM 和 TEM)都依賴于樣品和顯微鏡之間的電子轉(zhuǎn)移。因此,從幾乎沒有電導(dǎo)率的樣品中獲取可用的圖像信號可能很棘手(或幾乎不可能)。

      對于 SEM 來說尤其如此,其中樣品被電子束淹沒:導(dǎo)電性差或不導(dǎo)電的樣品會在這些條件下迅速積累電荷,除了對樣品造成熱和輻射損傷外,還會導(dǎo)致圖像失真。

      在特殊情況下,樣品可能會積累足夠的電荷來使主光束減速??,充當(dāng)“電子鏡”并完全阻礙任何圖像采集。2

      為了解決這個問題,在導(dǎo)電性差的樣品上涂上一層薄薄的碳或金屬。這種涂層使表面具有導(dǎo)電性,消除了電荷積累,并有助于顯微鏡獲得更好的信號。

      涂層技術(shù)廣泛用于對生物或有機樣品進(jìn)行成像,因為這些樣品通常不導(dǎo)電并且容易被電子束損壞。

      雖然涂層在 SEM 中的主要作用是提高導(dǎo)電性并防止“充電”,但它還具有許多其他有用的效果:

      • 一層薄薄的碳可以固定并機械穩(wěn)定顆粒物質(zhì)和易碎的有機樣品。
      • 涂覆含有截留氣體或水分的有機樣品可保護(hù)樣品和顯微鏡免受廢氣污染。
      • 金屬涂層可用于顯著減少電子束的穿透量,將掃描定位到樣品的最表面。這也可以顯著增加二次和背散射電子的發(fā)射。
      • 使用導(dǎo)熱材料涂覆樣品,例如金、銀、銅或鋁,可以限制初級電子束的熱損傷。

      涂層質(zhì)量的影響

      在電子顯微鏡中處理涂層樣品時,涂層本身會直接成像。因此,涂層的質(zhì)量意味著可以獲取的圖像質(zhì)量存在限制。

      在對極小的結(jié)構(gòu)(例如摻雜納米晶體的靜電紡絲纖維)進(jìn)行成像時,應(yīng)用太厚的涂層會限制對有用信息的訪問。因此,至關(guān)重要的是,可以精確控制涂層厚度并根據(jù)評估的特征進(jìn)行定制。3

      在最壞的情況下,質(zhì)量差的涂層設(shè)備會出現(xiàn)污染問題,可能會無法修復(fù)地?fù)p壞樣品。研究人員通常會選擇便宜的鍍膜機來降低成本,但最終會發(fā)現(xiàn)由于額外的顯微鏡時間和損壞的樣品,他們的成本會增加。

      Quorum Technologies 的 Q Plus 系列不再需要支付額外費用來購買先進(jìn)的尖端涂層。

      Q Plus 系列:經(jīng)濟(jì)實惠的優(yōu)質(zhì)涂料

      Q Plus 系列是 Quorum 世界領(lǐng)先的鍍膜機系列的最新版本,在一個單獨的、易于使用的平臺上提供最先進(jìn)的濺射和蒸發(fā)鍍膜。

      Quorum 的渦輪分子泵浦鍍膜機適用于氧化性和非氧化性金屬,而該公司的低成本旋轉(zhuǎn)泵浦濺射鍍膜機則適用于貴金屬。

      Q Plus 系列也適用于 SEM、FE-SEM 和 TEM 應(yīng)用的濺射鍍膜和蒸發(fā)碳鍍膜。

      這種新的涂層機系列旨在為研究人員提供精確控制涂層厚度的能力,無論其應(yīng)用要求如何。

      為獲得最佳性能,Q150V Plus 提供 10 -6 mbar 的極限真空,消除腔室中的氧氣、氮氣和水蒸氣,并消除整個濺射過程中的化學(xué)反應(yīng)。

      Q150V Plus 還有助于為超高分辨率應(yīng)用(超過 200,000 倍放大倍率)生產(chǎn)更細(xì)粒度和更薄的涂層。低散射允許形成高密度的高純度無定形碳膜。

      Q Plus 系列中的所有型號都配備了觸摸屏界面以及狀態(tài) LED 和音頻通知,以實現(xiàn)直觀和流線型的控制。集成的 16 GB 內(nèi)存意味著可以存儲 1000 多個食譜,USB 端口便于輕松升級和下載日志文件。

      要了解有關(guān) Q Plus 系列涂布機的更多信息,請立即查看手冊或聯(lián)系 Quorum。

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